科研實驗專用金屬銦靶材In磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發料

產品介紹

銦（In）是銀白色并略帶淡藍色的金屬 ，質地非常軟，能用指甲刻痕，可塑性強，有延展性，可壓成片，易熔金屬；液態銦能浸潤玻璃，并且會粘附在接觸過的表面上留下黑色的痕跡。天然銦有兩種主要同位素，其一為In-113為穩定核素，In-115為β- 衰變。從常溫到熔點之間，銦與空氣中的氧作用緩慢，表面形成極薄的氧化膜（In2O3），溫度更高時，與活潑非金屬作用。大塊金屬銦不與沸水和堿溶液反應，但粉末狀的銦可與水緩慢的作用，生成氫氧化銦。銦與冷的稀酸作用緩慢，易溶于濃熱的無機酸和乙酸、草酸。銦能與許多金屬形成合金。金屬銦主要用于制造低熔合金、軸承合金、半導體、電光源等的原料。

產品參數
中文名 銦         元素符號 In            原子量 114.818
沸點 2072℃     熔點 156.6℃         密度 7.31g/cm3

支持靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會盡快為您報價！！ 
服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，售后無憂！
產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備 
質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
       陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續長時間濺射易發生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
       注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
       建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。