納米乳化機/納米分散機/納米均質機/納米乳化泵/納米膠體磨/納米研磨機/濕法粉碎機/納米錐體磨/高剪切研磨分散機/粉液混合機/…
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產品品牌上海依肯機械
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更新日期2021-02-20 10:05
品牌: |
上海依肯機械 |
所在地: |
上海 |
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長期有效 |
CM 2000/4實驗室研磨機,實驗室高剪切研磨機
實驗室研磨散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
實驗室研磨散機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下。在固態物質較多時也常常使用研磨分散機進行細化。
實驗室研磨散機就是高效、快速、均勻地將一個相或多個相固體進入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過程的設備。而在通常情 況下各個相是互不相溶的。當外部能量輸入時,兩種物料重組成為均一相。中試型研磨分散機機由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,中試型研磨分散機使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),從而使不相溶的固相、液相在相應成熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經過中試型研磨分散機高頻的循環往復,最終得到穩定的高品質產品。
CM 2000/4實驗室研磨機,實驗室高剪切研磨機
研磨的效果跟一下有關:
研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMSD 2000/4
300
14,000
41
4
DN25/DN15
CMSD 2000/5
1000
10,500
41
11
DN40/DN32
CMSD 2000/10
4000
7,200
41
22
DN80/DN65
CMSD 2000/20
10000
4,900
41
45
DN80/DN65
CMSD 2000/30
20000
2,850
41
90
DN150/DN125
CMSD2000/50
60000
1,100
41
160
DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的10%。
影響分散研磨結果的因素有以下幾點
1)磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)
2)磨頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
3)物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
4)循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
CM 2000/4實驗室研磨機,實驗室高剪切研磨機
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