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電子束蒸發鍍膜技術及設備是用于半導體元件和光學零件簿膜生產、研究的理想設備。在極限真空、防止油污染和縮短工作周期等方面都具有較好的性能。是用于單層/多層光學薄膜的生產也是比較理想的設備。

應用領域：

本機為電子槍蒸發式真空鍍膜機，主要用于在玻璃鏡片上鍍制增透膜、分光膜、帶通膜/截止膜、高反膜等各種膜系，能夠實現100層膜的超大型膜系鍍膜，也能滿足在樹脂鏡片上鍍制各種顏色的增透膜以及在太陽鏡片上鍍制紅、黃、藍、綠等顏色的反光膜，還適用于裝飾品的鍍膜，如七彩等顏色。

設備主要特點：
1. 配置超大坩堝電子槍，整個蒸發過程中膜料表面平整，蒸發分布均勻；
2. 配置石英晶體膜厚控制儀可實現成膜速度和鍍膜過程的自動控制；
3. 配置大功率離子源，膜厚質量好；
4. 總體結構設計合理，更符合工藝的要求，真空系統PLC自動控制，人機界面，操作方便。

5. 真空操作系統實現互鎖保護，擴散泵有斷水、斷相報警功能。

6. 采用觸摸屏和PLC自動控制，實現對整機主要部件的參數化設置、實時運行監控及故障智能診斷。

主要技術指標：
1、真空工作室系統
內腔尺寸：直徑×高度　
真空系統：
機械泵--國產2x型旋片泵，可根據需要選用進口泵
羅茨泵--國產ZJ型羅茨泵，可根據需要選用進口泵
擴散泵--采用兩臺國產油擴散泵　
深冷系統--可選配
冷阱--采用新型緊密水冷冷阱，有效降低擴散泵返油率
真空參數：
極限真空：3×10^-4Pa
恢復真空時間：從大氣抽至4×10^-3Pa時間不大于15分鐘
2、工件烘烤裝置
采用上烘烤加熱方式，不銹鋼管狀加熱器作為加熱源　　　　　　　　　　　　　　　　　

溫度控制范圍：常溫到350℃　　　　　　　　
PID溫度控制系統，加熱管功率多組獨立可調　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
溫度分布均勻度：±10℃　
3、修正板機構：配有可倒式修正板，能進行自動控制
4、工件盤：采用整體工件盤，利于提高鍍膜精度和均勻性
5、蒸鍍系統：　　
蒸發方式--電子槍；
亦可使用進口電子槍
6、膜厚監控系統：
晶體膜厚控制儀--石英晶體監控儀，亦可選用可配單片式、雙片式或六片式探頭光學膜厚監控系統--選配
7、充氣系統：
質量流量計控制系統
可選配壓強控制儀
8、電氣控制系統：可實現抽真空和鍍膜過程自動控制亦可選配觸摸屏界面。